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  • LK1000M美國(guó) LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空
    美國(guó) LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空

    美國(guó) LK TECHNOLOGIES 電子槍 真空 LK1000M 唐：I582I984229

    更新時(shí)間：2024-12-13型號(hào)：LK1000M訪(fǎng)問(wèn)量：745
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  • EGPS-6210美國(guó)kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng)
    美國(guó)kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng)

    美國(guó)kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng) 帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個(gè)完整的子系統(tǒng)，可隨時(shí)連接到用戶(hù)的真空系統(tǒng)

    更新時(shí)間：2024-12-12型號(hào)：EGPS-6210訪(fǎng)問(wèn)量：657
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  • EGPS-4190美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
    美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)

    美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng) Kimball Physics 電子槍?zhuān)湓O(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用

    更新時(shí)間：2024-12-12型號(hào)：EGPS-4190訪(fǎng)問(wèn)量：678
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  • EGPS-1022美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)
    美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

    美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng) 噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線(xiàn)生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

    更新時(shí)間：2024-12-12型號(hào)：EGPS-1022訪(fǎng)問(wèn)量：686
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  • FRA-2X1-2美國(guó)kimball physics EGPS-1011電子槍系統(tǒng)
    美國(guó)kimball physics EGPS-1011電子槍系統(tǒng)

    美國(guó)kimball physics EGPS-1011電子槍系統(tǒng) Kimball Physics 電子槍?zhuān)湓O(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用 聯(lián)系 龔經(jīng)理 VX: yui231460 Call I8721868497

    更新時(shí)間：2024-12-12型號(hào)：FRA-2X1-2訪(fǎng)問(wèn)量：657
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  • LK1000M美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源，針對(duì)高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS，EELS等電子碰撞實(shí)驗(yàn)。

    更新時(shí)間：2024-12-10型號(hào)：LK1000M訪(fǎng)問(wèn)量：1031
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